產(chǎn)品名稱：標(biāo)準(zhǔn)參考物質(zhì) NIST SRM 2134 - 硅深度剖面標(biāo)準(zhǔn)中的砷植入
英文名稱：Arsenic Implant in Silicon Depth Profile Standard
品牌：美國NIST標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)
| 產(chǎn)品編號 | 規(guī)格 | 貨期 | 銷售價 | 您的折扣價 |
|---|---|---|---|---|
| SRM 2134 | each | 4周 | 27270 | 立即咨詢 |
- COA
- MSDS
SRM 2134 - 硅深度剖面標(biāo)準(zhǔn)中的砷植入 標(biāo)準(zhǔn)品 旨在用于通過二次離子質(zhì)譜 (SIMS) 分析技術(shù)校準(zhǔn)對硅基質(zhì)中微量和痕量砷的二次離子響應(yīng)。 SRM 2134 用于校準(zhǔn) SIMS 儀器在特定儀器條件下對硅基質(zhì)中砷的響應(yīng)。它也可以被實驗室用作校準(zhǔn)硅中砷工作標(biāo)準(zhǔn)的轉(zhuǎn)移標(biāo)準(zhǔn)。 SRM 2134 的一個單元由一個 1 cm × 1 cm 的單晶硅襯底組成，該襯底已被離子注入同位素 75As，標(biāo)稱能量為 100 keV。 SRM 2134 經(jīng)認(rèn)證可用于 75As 原子的保留劑量。劑量以每單位面積的砷質(zhì)量單位表示。 SIMS 提供了關(guān)于砷原子濃度隨地表以下深度變化的其他未經(jīng)認(rèn)證的信息。
認(rèn)證濃度值：
75As 原子的總保留劑量通過儀器中子活化分析確定。將兩種獨立制備的砷參考溶液（其中一種是 NIST SRM 3103a 砷標(biāo)準(zhǔn)溶液，經(jīng)砷濃度認(rèn)證）等分試樣沉積在濾紙上，作為分析中的標(biāo)準(zhǔn)。由此產(chǎn)生的認(rèn)證價值和 擴(kuò)展的不確定性是
認(rèn)證值的不確定度表示為擴(kuò)展不確定度 U = kuc，其中 k 是 2.04 的覆蓋因子，置信水平約為 95%，uc 是根據(jù) ISO 指南 [1] 計算的組合標(biāo)準(zhǔn)不確定度.組合標(biāo)準(zhǔn)不確定度是從測量過程中導(dǎo)出或估計的單個標(biāo)準(zhǔn)不確定度的平方和的平方根。
A 型和 B 型標(biāo)準(zhǔn)不確定度分量來自以下主要來源的測量不確定度：(1) 比較標(biāo)準(zhǔn)的濃度，(2) 樣品和標(biāo)準(zhǔn)之間的中子注量暴露差異，(3) 測量復(fù)制，(4) 標(biāo)準(zhǔn)的計數(shù)統(tǒng)計，(5) 脈沖堆積，以及 (6) 衰減時間效應(yīng)。所有已知的潛在不確定性來源都已被考慮 [2-4]。
處理、儲存和使用說明
處理：SRM 2134 - 硅深度剖面標(biāo)準(zhǔn)中的砷植入 標(biāo)準(zhǔn)品 的植入面是拋光的反射面。該表面在包裝前已清潔。使用前，應(yīng)立即使用加壓空氣除塵器從表面清除灰塵顆粒。不建議在氫氟酸中蝕刻此 SRM，因為表面氧化物可能會去除一些砷。
儲存：不使用時，SRM 應(yīng)存放在其原始托盤中，并蓋緊蓋子。
用途：隨著連續(xù)層被離子轟擊去除，SIMS 可以通過監(jiān)測一種或多種濺射離子種類，獲得作為深度函數(shù)的材料成分信息。使用該技術(shù)時，通常使用與未知物質(zhì)在同一基質(zhì)中的相同物質(zhì)的參考樣品校準(zhǔn)物質(zhì)的濃度值
陳經(jīng)理（銷售）
